ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







نمط اقتباس:
APA إسلوب

Nabbra، F. M.، Mostafa، A. H. E.، Mokhtar، H.، M.، و Ahmed، A. E. M. M. (2018). Electrodeposition of Copper in Presence of Thiosemicarbazide Derivatives. مجلة القلعة، ع10 ، 35 - 59. مسترجع من http://search.mandumah.com/Record/1027045

MLA إسلوب

Nabbra، Fatma M.، Amira H. EL-Din Mostafa، Hassan Mokhtar، M، و Abd El Monem. M. Ahmed. "Electrodeposition of Copper in Presence of Thiosemicarbazide Derivatives." مجلة القلعة ع10 (2018): 35 - 59. مسترجع من http://search.mandumah.com/Record/1027045

تنبيه: هذه الاقتباسات قد لا تكون دقيقة 100%.