ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







الرئيسية > Annealing Effects on Character...>الوصف

Annealing Effects on Characterizations of Zno Thin Films on Flexible and Non-Flexible Substrates

المصدر: مجلة العلوم الإنسانية والتطبيقية
الناشر: الجامعة الأسمرية الإسلامية زليتن - كليتى الآداب والعلوم
المؤلف الرئيسي: Farhat, Omar F. (Author)
مؤلفين آخرين: Alkadar, M. (Co-Author) , Ganebr, Mohamed Y. (Co-Author) , Elgwel, Abdulbast M. (Co-Author) , Hisham, M. (Co-Author)
المجلد/العدد: ع31
محكمة: نعم
الدولة: ليبيا
التاريخ الميلادي: 2018
الشهر: ديسمبر
الصفحات: 13 - 24
رقم MD: 1260878
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
اللغة: الإنجليزية
قواعد المعلومات: HumanIndex
مواضيع:
الخصائص المورفولوحية | البذور المحصولية | البنية البلورية | درجات الحرارة
كلمات المؤلف المفتاحية:
Si | PTFE | Zno | RF Sputtering | Annealing | Seed Layer
رابط المحتوى:
PDF (صورة)     
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
المستخلص: In this study, the morphological and structural properties of ZnO seed layer deposited on Si and Teflon substrates were comparatively analyzed. The effect of annealing process on the properties of the deposited ZnO thin films was also evaluated. Morphological and structural properties of ZnO films deposited on Si and PTFE substrates were studied using FESEM, AFM and XRD. Results revealed that the heat treatment is an important process to re-crystallizeZnO layer on both of the substrates. The best characterization results were achieved at annealing temperature of 300°C. Moreover, the root mean square was the highest for the ZnO layer deposited on PTFE substrate. The current study confirmed the importance of the annealing process in improving the crystalline structure of ZnO seed layer.

عناصر مشابهة


© 2024 المنظومة. جميع الحقوق محفوظة.