ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







الرئيسية > Study of Structural Morphology...>الوصف

Study of Structural Morphology and Optical Properties of Nickel Doped Nanostructured Tin Oxide Thin Films

العنوان بلغة أخرى: دراسة الخصائص التركيبية والمورفولوجية والبصرية لأغشية أوكسيد القصدير ذات التراكيب النانوية والمطعم بالنيكل
المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: حمود، همسة عبدالكريم (مؤلف)
المؤلف الرئيسي (الإنجليزية): Hmoud, Hamsa Abdul Kareem
المجلد/العدد: ع1
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2022
الصفحات: 29 - 38
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 1276627
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
اللغة: الإنجليزية
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
التحلل الكيميائي | أوكسيد القصدير | الخصائص الكيميائية
كلمات المؤلف المفتاحية:
أغشية Sno2: Ni | الرش الكيميائي الحراري | الخصائص البصرية | Sno2: Ni Thin Films | CSP | XRD | AFM | Optical Properties
رابط المحتوى:

الناشر لهذه المادة لم يسمح بإتاحتها.
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
المستخلص: يصف هذا البحث الطريقة التي استخدمت لتحضير أغشية رقيقة من أوكسيد القصدير غير المطعم والمطعم بالنيكل بواسطة تقنية بسيطة وغير مكلفة ومناسبة لتحضير هذه الأغشية بتجانس مقبول وباستخدام تقنية التحلل الكيميائي الحراري. اثبت تحليل حيود الأشعة السينية بأن الأغشية المحضرة كانت متعددة التبلور مع قمة ملحوظة عند (110) تم تغير محتوى النيكل (0، 2، 4) % وسبب هذا التغير زيادة في الحجم الحبيبي من 12.76‏ نانومتر بالنسبة للأغشية غير المطعمة إلى 14.08 نانومتر للأغشية المطعمة 4% نيكل. كانت كثافة الانخلاعات والمطاوعة تقل من (6.14- 5.04) نانومتر و(2.71 – 2.46) نانومتر على التعاقب. علاوة على ذلك فإن معدل القطر يقل من 75.09 نانومتر إلى 60.78 نانو متر مع زيادة نسبة التطعيم بالنيكل. إن الجذر التربيعي لمعدل الخشونة كان 6.78 نانومتر وأصبح 3.16 نانومتر لأغشية المطعمة ب 4% نيكل. قلت النفاذية بشكل قليل مع زيادة التطعيم بالنيكل، بينما معامل الامتصاص يزداد مع زيادة التطعيم بالنيكل. قلت فجوة الطاقة من eV 3.68 إلى eV 3.58 لأغشية المطعمة 4% بالنيكل، إن معامل الانكسار ومعامل الخمود قلت بزيادة نسبة التطعيم بالنيكل.

The article describes a method that was used to prepare thin films of Undoped SnO2 and SnO2: Ni thin films via a simple, costless, and suitable technique to prepare thin films with acceptable homogeneity using chemical spray pyrolysis (CSP) method. XRD anaylsis assures that Undoped SnO2 and SnO2:Ni films are polycrystalline with recognized peak at (110)., Nickel content were changed from (0,2, 4) % cause increasing the crystallite size from 12.76 nm to the Undoped SnO2 and 14.08 nm for the SnO2: 4%Ni. while the dislocation density and strain are decreasing from (6.14-5.04) nm, (2.71 - 2.46) nm respectively. Furthermore average diameter decreased from 75.09 nm to 60.78 nm with an increase of Nickel content. Rrms value of 6.78 nm for Undoped SnCh thin films decreased to 3.16 nm by ni content increase to 4%. The transmittance decreased slightly with increasing of Nickel content, while absorption coefficient is increased with the increasing of Nickel content in SnO2 films, energy gap decreased from 3.68 eV for SnO2 film to 3.58 eV for the doping SnO2: 4% Ni film, refractive index and extinction coefficient are decreased with the increase Nickel content.
ISSN: 1812-0380

عناصر مشابهة


© 2024 المنظومة. جميع الحقوق محفوظة.