ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







الرئيسية > دراسة الخصائص التركيبية لاغشية...>مارك

دراسة الخصائص التركيبية لاغشية SnO2 باعتماد طريقة Modified Reiteveled Method

العنوان بلغة أخرى: Studying Structural Properties and Dislocation Density of SnO2 thin Film by Using the Modified Reiteveled Method
المصدر: مجلة كلية التربية الأساسية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية الأساسية
المؤلف الرئيسي: مهدي، وفاء صالح (مؤلف)
المؤلف الرئيسي (الإنجليزية): Salih, Wafaa Mahdi
مؤلفين آخرين: عبدالمجيد، اسيل مصطفى (م. مشارك)
المجلد/العدد: ع115
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2022
الصفحات: 442 - 451
ISSN: 8536-2706
رقم MD: 1301269
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
اللغة: العربية
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
المواد الكيميائية | الأغشية الرقيقة | الرش الكيميائي
كلمات المؤلف المفتاحية:
الخصائص التركيبية | طريقة MRM | الحجم الحبيبي | الرش الكيميائي الحراري | العيوب الموضعية | Structure Properties | Sno2 | MRM Method | Grain Size | Chemical Spray Method | Dislocation Density
رابط المحتوى:

الناشر لهذه المادة لم يسمح بإتاحتها.
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
LEADER 03910nam a22002417a 4500
001 2059865
041 |a ara 
044 |b العراق 
100 |9 320970  |a مهدي، وفاء صالح  |e مؤلف  |g Salih, Wafaa Mahdi 
245 |a دراسة الخصائص التركيبية لاغشية SnO2 باعتماد طريقة Modified Reiteveled Method 
246 |a Studying Structural Properties and Dislocation Density of SnO2 thin Film by Using the Modified Reiteveled Method 
260 |b الجامعة المستنصرية - كلية التربية الأساسية  |c 2022 
300 |a 442 - 451 
336 |a بحوث ومقالات  |b Article 
520 |a تم في هذا البحث تحديد بعض الخواص التركيبية ككثافة العيوب الموضعية Dislocation density، الحجم الحبيبي Grain size، معامل التشكيل Shape factor ومعامل الخشونة Texture coefficient باعتماد طريقة Modified Reiteveled Method من خلال تحليل طيف حيود الأشعة السينية وهذه الطريقة تسمى Line Profile Analysis، لأغشية SNO2 المحضرة بطريقة الرش الكيميائي الحراري والمرسبة على قواعد زجاجية عند درجة حرارة 250°C ذات التركيب متعدد التبلور. حيث أشارت النتائج أن كثافة العيوب الموضوعية تزداد مع زيادة عرض قمة المنحنى لطيف حيود الأشعة السينية للمركب وهذا ناتج عن زيادة كل من التشاكه الاتلافي الذي يحصل داخل حبيبات المادة Coherent Domain Size وزيادة المطاوعة المايكروية Micro strain، أما الحجم الحبيبي فكان مرتبط بالشدة حيث كانت أعلى شدة تقابلها أوطئ قيمة للحجم الحبيبي وأيضا معامل الخشونة يرتبط بقيمة كل من الشدة المقاسة عمليات والشدة المقاسة من بطاقة ASTM ويكون معامل التشكيل للمركب أعلى ما يمكن عندما يكون عرض القمة للمستوى أقل ما يمكن.  |b In this research, we determine some of structural properties for example dislocation density, grain size, shape factor and texture coefficient by using Modified Reiteveled Method by analysis the spectrum of x-ray diffraction and this operation called line profile analysis, for thin film of SnO2 were prepared by thermal chemical spray deposition technique at substrate temperature (250oC), SnO2 deposited on glass substrate are of polycrystalline nature. The results indicate that the dislocation density increase with increasing brooding the peak of the spectrum x-ray diffraction and this result of increasing coherent domain size and micro strain, but the grain size decreasing with increasing intensity and texture coefficient connect with intensity calculate experimentally and intensity of ASTM, where shape factor reach at maximum value at least of the brooding beak. 
653 |a المواد الكيميائية  |a الأغشية الرقيقة  |a الرش الكيميائي 
692 |a الخصائص التركيبية  |a طريقة MRM  |a الحجم الحبيبي  |a الرش الكيميائي الحراري  |a العيوب الموضعية  |b Structure Properties  |b Sno2  |b MRM Method  |b Grain Size  |b Chemical Spray Method  |b Dislocation Density 
700 |9 268094  |a عبدالمجيد، اسيل مصطفى  |e م. مشارك  |g Abd Almajeed, Aseel Mustafa 
773 |4 التربية والتعليم  |6 Education & Educational Research  |c 025  |e Journal of the Faculty of Basic Education  |f Maǧallaẗ kulliyyaẗ al-muʻallimīn  |l 115  |m ع115  |o 1156  |s مجلة كلية التربية الأساسية  |v 000  |x 8536-2706 
856 |u 1156-000-115-025.pdf 
930 |d n  |p y  |q n 
995 |a EduSearch 
999 |c 1301269  |d 1301269 

عناصر مشابهة


© 2024 المنظومة. جميع الحقوق محفوظة.