ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







MSM- photodetectors based on AlxGa1-xN/GaN heterostructures grown on Si(111) by MOlecular beam epitaxy

المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: Aziz, Wisam Jaafer (Author)
المجلد/العدد: ع 6
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2011
الصفحات: 378 - 387
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 426420
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
رابط المحتوى:
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
المستخلص: في هذا البحث تم صناعة ودراسة الخصائص التركيبية، البصرية والكهربائية لكواشف ضوئيه (معدن - شبه موصل- معدن ) مصنوعه من تركيبة ثلاثية AlxGa1-xN على اساس سليكون (111) صنعت بواسطة منظومة البناء .(PA-MBE) قياسات أشعة اكس اظهرت البناء الدقيق والمنظم للعينات I (Al0.24Ga0.76N/GaN) و II (Al0.43Ga0.57N/GaN) ذات الاساس السليكوني. FWHM للعينات I و II كان 0.69 و 0.65 على التوالي. ارتفاع حاجز شوكلي كان eV 60,0 و 67,0 على التوالي و المعامل المثالي 92,1 و 32,1 على التوالي. أعلى قمة للاستجابة للعينة I كانت A/W0,123 في nm 305 وللعينه II كانت A/W 0,864 في nm 275 .

This research has been fabricated and studied the structural, optical and electrical characterization of photo-detectors of AlxGa1-xN based metalsemiconductor-metal (MSM) grown on Si (111) substrate by plasma-assisted molecular beam epitaxy (PA-MBE) are presented. X-ray diffraction (XRD) measurements revealed that the sample I (Al0.24Ga0.76N/GaN) and sample II (Al0.43Ga0.57N/GaN) were epitaxially grown on Si substrates. FWHM for samples I and II were equal to 0.69 and 0.65o respectively. The Schottky barrier height and ideality factor for samples I and II were equal to 0.60, 0.67 eV and 1.29, 1.32 respectively. Maximum peak responsivity for sample I was 0.123 A/W at 305 nm and for sample II, maximum peak responsivity was 0.864 A/W at 275 nm.

وصف العنصر: مستخلص الدراسة باللغة العربية
ISSN: 1812-0380

عناصر مشابهة