ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







الرئيسية > Single Layer Anti-Reflection...>الوصف

Single Layer Anti-Reflection Coating for near Infrared Region

المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: Iltaif, Abd Alhussain K. (Author)
مؤلفين آخرين: Khudiar, A. I. (co-Auth) , Thieban, S. S. (co-Auth)
المجلد/العدد: ع 3
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2008
الصفحات: 726 - 732
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 426500
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
الأغشية الرقيقة | مستخلصات الأبحاث | الفيزياء | طريقة الترسيب الحراري | أوكسيد السيلكون | الأطوال الموجية | منظومة الليزر
رابط المحتوى:

الناشر لهذه المادة لم يسمح بإتاحتها.
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
المستخلص: تم في هذا البحث استخدام طريقة الترسيب الحراري لترسيب طبقه مفرده من أوكسيد السليكون على قواعد من السليكون النقي والمشوب كطلاء مضاد للانعكاس ضمن المدى الموجي (3-1) مايكروميتر وبسمك للطبقة المرسبة 233.6 نامومتر وبمعدل ترسب 0.5 تامومتر/ ثابتة ، وكانت اعظم نفاذية عند الطول الموجي ٧, ١ مايكروميتر هي 82% بالنسبة للسليكون النقي بينما للسليكون المشوب تكون (%61، %56، %50) وباسماك (1.5, 1، 0.5) مليميتر على التوالي. كذلك تم دراسة قابلية تحمل هذه النوافذ باستخدام منظومة ليزر نديميوم - زجاج عالي القدرة (١٠ جول) وعرض نبضة ٣٠٠ مايكروثانية ولاختبارات متعددة. في الاختبار الأول تم استخدام شدة طاقة مختلفة ولضربة واحدة وكانت عتبة تلف الغشاء ذي الطبقة الواحدة 7.34 جول /سم2 .بينما في الاختبار الثاني تم استخدام نفس الطاقة بعدد مختلف من الضربات حتى الوصول إلى عتبة التلف. حيث إن الفاصلة الزمنية بين ضربة وأخرى 5 ثانية.

Thermal evaporation method was employed to deposit silicon monoxide (SiO) as a single layer anti-reflection coating (ARC's) in the near IR region 1-3) um.SiO deposited on both sides with two types of Si substrates intrinsic and extrinsic. The film thickness was 233.6 nm and the deposition rate 0.5 nm/s. The maximum transmittance at 1.7 um for the intrinsic type increase to 82%, while for extrinsic Si substrate with thickness) 0.5,1,1.5( mm increase to (61%,56?%.50%) respectively. The toleration of the prepared films was studies using Nd-glass laser system output energy 10 J, pulse duration nearly 300 us using different tests. In the first test, different energy density for a single shot was used to determine the damage threshold which was 7.34 j/cm2 . In the second test ,the same energy was used (less than the damage threshold) but with different number of shots until the damage threshold was reached . The time interval between shoots was 5 Sec .
وصف العنصر: أصل المقال المنشور باللغة الإنجليزية
ISSN: 1812-0380

عناصر مشابهة


© 2024 المنظومة. جميع الحقوق محفوظة.