ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







الرئيسية > Preparation of Double - Layer...>الوصف

Preparation of Double - Layer Anti Reflection Coating(ARCs) in the Infrared Region

المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: Khalaf, M. K. (مؤلف)
مؤلفين آخرين: Iltaif, Abd Alhussain K. (Co-Author) , Abbas, L. N. (Co-Author) , Thieban, S. S. (Co-Author)
المجلد/العدد: ع 6
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2009
الصفحات: 43 - 51
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 430105
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
اللغة: الإنجليزية
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
البحوث العلمية | الكيمياء | المعادلات الكيميائية | الترسيب الحراري | مستخلصات الابحاث
رابط المحتوى:

الناشر لهذه المادة لم يسمح بإتاحتها.
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
المستخلص: تم في هذا البحث استخدام طريقة الترسيب الحراري لترسيب طبقة مزدوجة من فلوريد المغنيسيوم وكبريتيد الخارصين على قواعد من السليكون النقي والمشوب كطلاء غير عاكس ضمن المدى الموجي (5- 1.4) مايكرومتر حيث تم ترسيب طبقة فلوريد المغنيسيوم كطبقة داخلية بسمك 525.3 نانومتر وبمعدل ترسيب 1 نانومتر/ ثانية بينما طبقة كبريتيد الخارصين رسبت كطبقة خارجية بسمك 295.3 نانومتر وبمعدل ترسيب 0.9 نانومتر/ ثانية لكلا الجانبين وكانت اعظم نفاذية عند الطول الموجي 2.9 مايكروميتر تزداد من 50% إلى 87% بالنسبة للسليكون النقي وتكون 56%, 62%, 68% بالنسبة للسليكون المشوب وباسماك (1.5.1.0.5) مليمتر على التوالي. تم دراسة قابلية تحمل هذه النوافذ باستخدام منظومة ليزر نديميوم- زجاج عالي القدرة (10) جول عرض نبضة 300 مايكروثانية ولاختبارات متعددة في الاختبار الأول تم استخدام شدة طاقة مختلفة لضرب واحدة وكانت عتبة التلف لغشاء ذي طبقتين حوالي 28.3 جول/سم2. وفي الاختبار الثاني تم استخدام نفس الطاقة بعدد مختلف الضربات حتى الوصول إلى عتبة التلف. حيث أن الفاصلة الزمنية بين ضربة وأخرى 5 ثانية.

Thermal evaporation method was employed to deposit magnesium fluoride MgF2_and Zinc Sulfide (ZnS) as a double layer in the range (1.4-5) urn. MgF2 was deposited as inner layer with film thickness of 525.3 nm and deposition rate of 1 nm/s while ZnS was deposited as the outer layer with film thickness 295.3 nm and deposition rate of 0.9nm/s on both sides of intrinsic and extrinsic Si substrate and proved that the maximum transmittance at 2.9).im increases from 50% to 87% for intrinsic Si substrate, while increases to (68%,62%,56%) for extrinsic Si type with thickness (0. 5,1,1.5)mm respectively . The toleration of the prepared films was studied using Nd - glass laser system output energy 10 J , Pulse duration about 300us by using different tests .In the first test, different energy density for a single shot 'was used to determine the damage threshold which was about 28.3 J/cm2 for the double layer film. In the second test we used the same energy (less than the damage threshold) but with different number of shots until the damage threshold was reached. The time interval between shots was about 5 Sec.
وصف العنصر: باللغة الانجليزية
ISSN: 1812-0380

عناصر مشابهة


© 2024 المنظومة. جميع الحقوق محفوظة.