ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







الرئيسية > Study Of Annealing Effect On T...>الوصف

Study Of Annealing Effect On The Some Physical Properties Of Nanostructured Tio2 Films Prepared By PLD

العنوان بلغة أخرى: دراسة تأثير التلدين على بعض الخصائص الفيزيائية للأغشية TiO2ذات التركيب النانوي المصنعة بتقنية PLD
المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: Yousif, Ali Ahmed (Author)
مؤلفين آخرين: Al Obaidi, Sarmad S. (Co - Author)
المجلد/العدد: ع3
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2013
الصفحات: 139 - 160
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 636682
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
علوم الفيزياء
رابط المحتوى:

الناشر لهذه المادة لم يسمح بإتاحتها.
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
المستخلص: تم تحظير أغشية اوكسيد التيتانيوم (TiO2) النانوية بواسطة تقنية ترسيب الليزر النبضي (PLD) على قواعد زجاجية. تأثير التلدين بدرجات الحرارة المختلفة (400، 500، 600 درجة مئوية) على بعض الخصائص الفيزيائية مثل التركبية، الطبوغرافية والبصرية قد درست. تبين من نتأج حيود الأشعة السينية بأن تبلور الأغشية الرقيقة لثنائي أوكسيد التيتانيوم تحسن في اعلى درجة حرارة تلدين وكذلك يمكن أن يلاحظ بأن طور الروتيل يبدأ بالظهور في درجات حرارة التلدين 500 و 600 درجة مئوية. أن عرض المنحني عند منتصف القمة لأغشية ثنائي أوكسيد التيتانيوم لأنماط (101) قد صغر من 0.450 إلى 0.301 بزيادة درجة حرارة التلدين. وأكدت قياسات مجهر القوى الذرية (AFM) بأن الأغشية المنمات بهذه الطريقة لها تبلور جيد وذات سطح متجانس. وان قيم مربع الجذر المتوسط (RMS) للأغشية الرقيقة وخشونة السطح تزداد مع زيادة درجة الحرارة التلدين. من مطياف النفاذية للأشعة المرئية وفوق البنفسجية (قيست بواسطة مطيافUV-VIS ) نتائج النفاذية الضوئية تظهر بأن هنالك نفاذية أكثر من 65% في منطقة الأشعة تحت الحمراء القريبة والتي تقل مع زيادة درجات الحرارة التلدين. فجوة الطاقة البصرية المسموحة الغير مباشرة الأغشية قدرة بحدود من 3.49 إلى 3.1 إلكترون فولت. ووجد أن فجوة الطاقة البصرية المسموحة المباشرة تقل من 3.74 إلى 3.55 إلكترون فولت، بزيادة درجة حرارة التلدين. ووجد أن معامل الانكسار للأغشية تتراوح من 2.27 إلى 2.98 عند الطول الموجي 550 نانومتر. أن معامل الخمود وثابت العزل الحقيقي والخيالي قد زدادا بزيادة درجة حرارة التلدين.

Nanostructured Titanium Dioxide (TiO2) thin films were prepared by pulsed laser deposition (PLD) on the glass substrates. The effects of different annealing temperature (400, 500 and 600 °C) towards the some physical properties such as structural, morphological and optical have been studied. From X-ray diffraction result, the crystallinity of TiO2 thin films improved at higher annealing temperature. It also could be observed that the rutile phase start to exist at annealing temperatures of 500 °C and 600 °C. The Full Width at Half Maximum (FWHM) of the (101) peaks of these films decreases from 0.450° to 0.301° with increasing of annealing temperature. AFM measurements confirmed that the films grown by this technique have good crystalline and homogeneous surface. The Root Mean Square (RMS) value of thin films surface roughness increased with increasing of the annealing temperature. From UV-VIS spectrophotometer measurements, the optical transmission results shows that the transmission over than ~65% in the near-infrared region which decrease with the increasing of annealing temperatures. The allowed indirect optical band gap of the films was estimated to be in the range from 3.49 to 3.1 eV. The allowed direct band gap was found to decrease from 3.74 eV to 3.55 eV with the increase of annealing temperature. The refractive index of the films was found from 2.27 -2.98 at 550 nm. The extinction coefficient, real and imaginary parts of the dielectric constant increase with annealing temperature.
ISSN: 1812-0380

عناصر مشابهة


© 2024 المنظومة. جميع الحقوق محفوظة.