ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







تحضير ودراسة اغشية اوكسيد الزنك المشوب بالألمنيوم ذو التركيب النانوى المحضر بطريقة التحلل الكيميائى الحرارى

العنوان بلغة أخرى: Fabrication and Study of ZnO: Althinfilm Nanostructure by Spray Pyrolysis
المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: صبري، رعد سعدون (مؤلف)
المؤلف الرئيسي (الإنجليزية): Sabry, Raad S.
مؤلفين آخرين: كافي، ضيدان خلف (م. مشارك)
المجلد/العدد: ع3
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2013
الصفحات: 115 - 130
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 871686
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
اللغة: العربية
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
رابط المحتوى:
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
LEADER 03901nam a22002897a 4500
001 1620211
041 |a ara 
044 |b العراق 
100 |a صبري، رعد سعدون  |g Sabry, Raad S.  |e مؤلف  |9 468208 
245 |a تحضير ودراسة اغشية اوكسيد الزنك المشوب بالألمنيوم ذو التركيب النانوى المحضر بطريقة التحلل الكيميائى الحرارى 
246 |a Fabrication and Study of ZnO: Althinfilm Nanostructure by Spray Pyrolysis 
260 |b الجامعة المستنصرية - كلية التربية  |c 2013 
300 |a 115 - 130 
336 |a بحوث ومقالات  |b Article 
520 |a تم في هذا البحث دراسة اوكسيد الزنك المشوب بالألمنيوم (AZ0) والمرسب على قواعد من الزجاج والسليكون والسليكون المسامي بطريقة التحلل الكيميائي الحراري. ولقد تم تصنيع السليكون المسامي بطريقة الانوده الكهروكيميائية لرقائق من السليكون نوع (p) ذو اتجاهية (100). إن تأثير نوع القاعدة وتركيز التشويب على(AZO) تم التحقق منه من خلال تحليل الخواص التركيبية والبصرية والكهربائية للأغشية. ولقد وجد أن كل الأغشية متعددة التبلور وذو اتجاهية (002). من قياسات ماسح القوة الذرية (AFM) وجد أن معدل الجذر التربيعي للخشونة(RMS) يقل مع زيادة تركيز الألمنيوم. الخواص الكهربائية تبين أن التوصيلية الكهربائية تتغير باختلاف نسبة تركيز التشويب حيث تزداد بازدياد تركيز الألمنيوم اعضم توصيلية كهربائية كانت( S. cm-1) 4.25 عند نسبة التشويب 3%. ومن خلال خصائص تیار- فولتية وجد أن عامل المثالية (2˜n) للمفرق الهجين. وكانت النفوذية الضوئية بحدود 85% في المدى المرئي للأغشية. 
520 |b In the present work, a study ZnO and ZnO: Al (AZO) was deposited on glass, silicon and porous silicon (PS) substrates by the low cost spray pyrolysis technique. The porous silicon (PS) substrates were formed by electrochemical anodization on p-type (100) silicon wafer, The effect of substrate type, and doping concentration on AZO thin layers have been investigated by analysing the structural, optical, and electrical properties of the flms. It was found that all films were polycrystalline with preferred [002] orientation, from the AFM surface morphology measurement, found the RMS roughness decreases with increasing the aluminium concentration. The electrical properties showed the conductivity variation of AZO films with different doping concentrations increase with increased Al concentrations. Maximum electrical conductivity 4.25 (S.cm' was obtained at a doping concentration of 3% from 1-V characteristics found The ideality factors (n-2) of the prepared heterojunction are observed in the interim bias voltage range. The optical transmittance was about 85% in visible range for the optimum film. 
653 |a التفاعلات الكيميائية 
653 |a الكيمياء الفيزيائية 
653 |a التركيب النانوي 
653 |a التحليل الكيميائي الحراري 
653 |a أوكسيد الزنك 
700 |9 468209  |a كافي، ضيدان خلف  |e م. مشارك 
773 |4 التربية والتعليم  |6 Education & Educational Research  |m ع3  |o 1151  |s مجلة كلية التربية  |t Journal of Faculty of Education  |x 1812-0380  |c 008  |l 003  |v 013 
856 |u 1151-013-003-008.pdf 
930 |d n  |p y  |q y 
995 |a EduSearch 
999 |c 871686  |d 871686