ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







Influence of annealing temperature on electrical properties of PbSe/n-Si heterojunction devices

المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: Hassan, Marwa Abd Almuhsien (Author)
المجلد/العدد: ع 1
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2012
الصفحات: 306 - 318
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 424878
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
رابط المحتوى:
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
LEADER 02880nam a22002057a 4500
001 1073956
044 |b العراق 
100 |9 33394  |a Hassan, Marwa Abd Almuhsien  |e Author 
245 |a Influence of annealing temperature on electrical properties of PbSe/n-Si heterojunction devices 
260 |b الجامعة المستنصرية - كلية التربية  |c 2012 
300 |a 306 - 318 
336 |a بحوث ومقالات 
500 |a باللغة الانجليزية  
520 |a في ھذا البحث، حضرت أغشية رقيقة من p-PbSe بتقنية التبخير الحراري في الفراغ في درجة حرارة الغرفة على قواعد من السليكون n-type silicon تحت ضغط 6-10 ملي بار. سمك الغشاء بحدود 600 nm. درس تأثير درجات حرارة التلدين (303, 333, 363 and 393) K على الخصائص الكھربائية للمفرق الھجين PbSe/n-Si. تم قياس الخصائص الكھربائيه التي شملت خصائص سعة-فولتية (C-V) وخصائص تيار-فولتية (I-V). ومن قياس سعة – فولتية اتضح أن المفرق من النوع الحاد وتم حساب جھد البناء الداخلي ( (Vbiمن خلال اخذ امتداد 1/C2-V الى النقطه (V=0) حيث بلغ (0.7V) عند درجة حرارة الغرفة، وتم حسابه تحت درجات حرارة تلدين مختلفة، بينما تم حساب عامل المثالية (β) من قياسات تيار- فولتية.   |b - In the present work, p-PbSe thin films were prepared by using thermal evaporation technique at room temperature on n-type silicon substrate under vacuum of 10-6 mbar. Thickness of the film is 600 nm. The fabricated devices were subjected to post-deposition annealing at (303, 333, 363 and 393) K and 45 min. The effect of annealing temperature on the electrical properties of PbSe/n-Si junctions was studied. The electrical properties included the capacitance-voltage (C-V) and current-voltage (I-V) measurements. C-V characteristics suggest that the fabricated devices were abrupt type. The built in potential (Vbi) was determined by extrapolation from 1/C2-V curve to the point (V=0. It was equal to (0.7V) at room temperature and was calculated under different annealing temperatures, while from I-V measurements, the ideality factor (β) is calculated.  
653 |a درجة الحرارة   |a التبخير الحراري  |a أغشية ppbse  |a الطاقة الكهربائية   |a التلدين   |a مستخلصات الأبحاث 
773 |4 التربية والتعليم  |6 Education & Educational Research  |c 050  |l 001  |m ع 1  |o 1151  |s مجلة كلية التربية  |t Journal of Faculty of Education  |v 012  |x 1812-0380 
856 |u 1151-012-001-050.pdf 
930 |d n  |p y  |q y 
995 |a EduSearch 
999 |c 424878  |d 424878 

عناصر مشابهة