ارسل ملاحظاتك

ارسل ملاحظاتك لنا







structural characterization of magnetron sputtered ZNo : in thin films

العنوان المترجم: structural characterization of magnetron sputtered ZNo: in thin films
المصدر: مجلة كلية التربية
الناشر: الجامعة المستنصرية - كلية التربية
المؤلف الرئيسي: هزاز، صلاح قدوري (مؤلف)
المجلد/العدد: ع 3
محكمة: نعم
الدولة: العراق
التاريخ الميلادي: 2009
الصفحات: 930 - 942
ISSN: 1812-0380
رقم MD: 428449
نوع المحتوى: بحوث ومقالات
قواعد المعلومات: EduSearch
مواضيع:
رابط المحتوى:
صورة الغلاف QR قانون
حفظ في:
المستخلص: تم في هذا البحث دراسة تأثير زيادة زمن الترذيذ على الخصائص التركيبية لأغشية ZnO: In من خلال حيود الأشعة السينية ظهرت لنا اعتماد شدة القسم والاتجاهات المتسيدة على زمن الترذيذ. ومن قياس عامل التركيب وجد إن المستوى (002) هو المتسيد في غشاء ZnO:In. تم حساب سمك الأغشية باستخدام المجهر الإلكتروني الماسح. لوحظ زيادة سمك الغشاء وحجم الحبيبة مع زيادة زمن الترذيذ. وأن اجهادات الشد في جميع الأغشية كانت ناتجة من نقصان محور C، أما بالنسبة للمطاوعة فإنها تزداد مع زيادة زمن الترذيذ في مستوى كل غشاء.

The effects of increasing sputtering time on the structure of ZnO:In films are studied. XRD ray test illustrates the dependence of preferred orientation and the diffraction peak intensities on the sputtering time. From texture coefficient measurements the preferred orientation of ZnO:In films is (002) plane. SEM photographs are used to calculate films' thicknesses. Grain sizes and films' thicknesses were found to increased with increasing sputtering time. The tensile stresses found in all films were due to decrement of the c-axis values, and the strain in the plane of each film increases with increasing sputtering time.

وصف العنصر: باللغة الانجليزية
ISSN: 1812-0380